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瀏覽:126次[供應(yīng)]不銹鋼拋光粉
不銹鋼拋光粉
  • 深圳晶材化工有限公司
  • 信息編號(hào):bh401221154353676
  • 更新時(shí)間:2016/4/5 10:25:37
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第 10 年普通會(huì)員

深圳晶材化工有限公司

  • 0級(jí)
  • 主營(yíng):
    納米氧化鈦
  • 會(huì)員類型:

    普通會(huì)員

  • 認(rèn)證信息:
    工商執(zhí)照未認(rèn)證
  • 聯(lián)系人:

    常昊 (先生)

  • 咨詢商家:
  • 聯(lián)系方式:
  • 地址:
    廣東深圳深圳市龍崗區(qū)平湖宏泰街36號(hào)新南工業(yè)區(qū)1棟
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  • 產(chǎn)品名稱:
新上架產(chǎn)品
品牌詞
  • 產(chǎn)品信息

名稱:深圳晶材化工有限公司

地址:深圳市龍崗區(qū)平湖宏泰街36號(hào)新南工業(yè)區(qū)1棟  電話:0755-89313259, 89689059

手機(jī):13827436268   常昊

傳真:0755-22145368

郵件:info@

網(wǎng)站:http://

jc-00系列產(chǎn)品是深圳晶材化工有限公司生產(chǎn)的納米拋光液,采用納米技術(shù)和超分散設(shè)備合成的cmp漿料。產(chǎn)品分別適用于鋁合金鏡面拋光,不銹鋼鏡面拋光,大理石和石材精拋工藝。


主要特點(diǎn)

jc-00系列產(chǎn)品具有表面張力低、易清洗、拋光速率高、拋光鏡面粗糙度低等特點(diǎn),非常適用于不銹鋼的拋光工藝。直接效果達(dá)到不銹鋼鏡面的光線散射減弱,成像更清晰;水紋現(xiàn)象減弱或消除;本品具拋光及鈍化功能,適用于對(duì)不銹鋼表面要求高度鏡面效果的產(chǎn)品。在拋光中根據(jù)需要可以優(yōu)化不同配比,均能達(dá)到最佳使用效果。

jc-00系列產(chǎn)品綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì):?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光,拋光速率較快,表面光潔度高,損傷低,完美性好,但表面平整度和平行度差,拋光后表面一致性差;單純的機(jī)械拋光表面一致性好,表面平整度高,但表面光潔度差,損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為完美的表面,又可以得到較高的拋光速率,得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí),是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的唯一有效方法。


主要用途

jc-005h主要應(yīng)用于不銹鋼的拋光工藝中。

jc-003h主要用于鋁合金鏡面拋光工藝;

jc-001h主要用于大理石精拋工藝;


基本參數(shù):

ph值 8.5~9.5

比重 1.280-1.295

粘度(稀釋后)< 10.0(mpa.s)

磨料粒徑 100~120(nm)

磨料濃度 40±2%


使用方法

根據(jù)工藝將拋光原漿料按一定比例與去離子水混合后使用;根據(jù)拋光設(shè)備和拋光切削度合理使用拋光液濃度。


運(yùn)輸及保存

1、運(yùn)輸與存放過程中要避免光直射。

2、運(yùn)輸與存放溫度為5℃~50℃。

3、保質(zhì)期一年,建議半年內(nèi)使用。


包裝規(guī)格 25kg/桶

化學(xué)機(jī)械拋光

這兩個(gè)概念主要出現(xiàn)在半導(dǎo)體加工過程中,最初的半導(dǎo)體基片(襯底片)拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等,但是得到的晶片表面損傷是及其嚴(yán)重的。直到60年代末,一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(cmp chemical mechanical polishing )取代了舊的方法。cmp技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì):?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光,拋光速率較快,表面光潔度高,損傷低,完美性好,但表面平整度和平行度差,拋光后表面一致性差;單純的機(jī)械拋光表面一致性好,表面平整度高,但表面光潔度差,損傷層深;瘜W(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為完美的表面,又可以得到較高的拋光速率,得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí),是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的唯一有效方法。

制作步驟

依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(cmp)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素  研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程:

(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑  、催化劑  等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。

(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。

硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高

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深圳晶材化工有限公司

深圳晶材化工有限公司位于深圳龍崗區(qū),是一家專業(yè)從事納米材料、納米氧化物,光觸媒,納米涂層,納米防粘涂層,功能材料、阻燃材料和LED行業(yè)用有機(jī)硅光擴(kuò)散劑材料等高新技術(shù)產(chǎn)品開發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高科技企業(yè)。 納米氧化物納米材料: 納米氧化鈦, 納米氧化鋁, 納米氧化鋯,納米氧化鋅,納米氧化鎂,納米氧化鈰,納米ATO; 有機(jī)硅微粉有:光擴(kuò)散劑專用有機(jī)硅光擴(kuò)散劑,高透光度核殼結(jié)構(gòu)有機(jī)硅光擴(kuò)散劑,化妝品...
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